Sputtertargets aus Molybdän

Sputtertargets aus Molybdän

Informationen zu Molybdän-Sputtertargets
1. Reinheit: 99,95 Prozent;
2.Circular: Durchmesser<= 14 inch, Thickness >= 1mm;
Block: Länge<= 32 inch, Width <= 12 inch, Thickness >= 1mm.
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Produkteinführung

Objektive für Molybdän-Sputtertargets
Silbergraues Metall Molybdän hat eine Mohs-Härte von 5,5. Es hat einen Schmelzpunkt von 4.753 Grad F/2.623 Grad. Von den natürlich vorkommenden Elementen haben nur Tantal, Osmium, Rhenium, Wolfram und Kohlenstoff höhere Schmelzpunkte. Molybdän beginnt bei etwa 300 Grad (572 Grad F) schwach zu oxidieren. Unter den üblicherweise verwendeten Metallen hat es einen der niedrigsten Wärmeausdehnungskoeffizienten. Wenn der Durchmesser von Molybdändrähten von 50-100 nm auf 10 nm reduziert wird, erhöht sich ihre Zugfestigkeit um fast das Dreifache, von etwa 10 auf 30 GPa.

Materialtyp Molybdän
Symbol Mo
Atomares Gewicht 95.96
Ordnungszahl 42
Farbe/Aussehen Grau, Metallisch
Wärmeleitfähigkeit 139 W/m.K
Schmelzpunkt (Grad) 2,617
Der Wärmeausdehnungskoeffizient 4.8 x 10-6/K
Theoretische Dichte (g/cc) 10.2
Z-Verhältnis 0.257
Sputtern Gleichstrom
Max. Leistungsdichte*
(Watt/Quadratzoll)
150
Art der Bindung Indium, Elastomer
Kommentare Filme glatt, hart. Sorgfältiges Entgasen erforderlich

Weitere Details zu Molybdän-Sputtering-Targets

Anwendungen: Flachbildschirme, Halbleiter und Elektronik
Eigenschaften: Niedrige Kosten; hohe Reinheit; gereinigte Körner mit konstruierter Mikrostruktur; Halbleiterqualität

Molybdenum Sputtering Targets factory

Herstellungsverfahren

1. Verfeinerung
Schmelzen und Gießen in einem dreischichtigen elektrolytischen Verfahren
Kornfeinung, halbkontinuierliches Gießen und elektrischer Widerstandsofen
Thermomechanische Behandlung, Endreinigung und Staubsaugen vor dem Verpacken
Schutz vor Umweltgiften
Schutz während des Transports

2 Optionen
Sputtering-Target-Bonding-Service; 99,95 Prozent Mindestreinheit; kleinere Größen werden auch für F&E-Anwendungen angeboten

Alle Target-Produkte von Yusheng Metals sind speziell für den zuverlässigen Betrieb im Dünnschicht-Abscheidungsprozess ausgelegt. Der Herstellungsprozess gewährleistet eine hohe Reinheit, feine und gleichmäßige Partikel des Targets. Wir bieten eine große Auswahl an Optionen in einer Vielzahl von Reinheiten und Formen.

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