Zirkonium-Sputtering-Target

Ähnliche Eigenschaften gelten für die Eigenschaften von Sputtertargets aus Zirkonium. Sein Schmelzpunkt beträgt 1852 Grad, die Dichte 6,49 g/cm³ und der Dampfdruck bei 1987 Grad beträgt 10 -4 Torr. Es ist ein starkes Übergangsmetall, das glänzend, cremefarben und in geringerem Maße Titan und Hafnium ähnelt. Zirkonium wird hauptsächlich als Trübungsmittel und feuerfestes Material verwendet, aber aufgrund seiner hohen Korrosionsbeständigkeit wird Zirkonium auch in geringer Menge als Legierungsmittel verwendet.

Eigenschaften von Zirkonium-Sputtertargets (theoretisch)

Sputtertargets aus Zirkonium werden in einem Schmelzverfahren hergestellt und in der Regel für optische und dekorative Beschichtungen verwendet. Wir liefern standardmäßige Hf- und Zr-Targets für Leybold-Beschichtungsanlagen, bei denen es sich um hochreine Targets mit sehr wenig Hafnium handelt.

Während Zirkoniumbogenkathoden und Sputtertargets geringerer Reinheit verwendet werden, um goldfarbene Filme zu erzeugen. Endbenutzer können eine gute Härte, einen hohen Glanz, eine korrosions- und oxidationsbeständige Farbe erzielen, die sich über einen sehr langen Zeitraum nicht verfärbt oder anläuft, mit einer Reinheit von bis zu 99,4 Prozent, einer konsistenten Korngröße und einem verringerten Gehalt an Verunreinigungen. Für Hersteller von Uhren, Sanitärkeramik, Fahrzeugspiegeln usw. liefern wir Zirkonium-Targets oder Zirkonium-Bogenkathoden, die für verschiedene Magnetron-Sputtermaschinen und Ionenplattiermaschinen geeignet sind.

Das übliche Analysezertifikat für das 3N5 Zirkonium-Sputtering-Target ist unten angegeben.
Analytische Techniken:

1. ICP-OES wurde verwendet, um metallische Elemente zu untersuchen;

2. LECO wurde verwendet, um Gaselemente zu untersuchen.

Für Halbleiter-, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Displays und optische Anwendungen ist Yusheng Metals auf Sputtertargets aus hochreinem Zirkonium mit der höchsten Dichte und der kleinsten durchschnittlichen Korngröße spezialisiert. Wir bieten flache Targets in Größen und Konfigurationen an bis 820 mm, in monolithischer und geklebter Variante, mit Lochbohrpositionen und Ausführungen für Gewinde, Fasen, Aussparungen und Rückseitenbleche. Diese Targets können sowohl mit älteren als auch moderneren Sputtergeräten verwendet werden, einschließlich Flip-Chips und großflächigen Beschichtungen für Brennstoff- oder Solarzellen. Darüber hinaus werden einzigartige Größen und Legierungen sowie Forschungsobjektive hergestellt.

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