Titanziel

Übersicht über Titan (Ti)-Targets

Titan-Targetmaterial, Titan-Elementsymbol Ti, Ordnungszahl 22, Dichte 4,454 g/cm3, physikalische Eigenschaften: Schmelzpunkt 1668 Grad, Siedepunkt 3262 Grad, spezifische Wärmekapazität 0,52 (J/(Kg-K) , Verdampfungswärme 421 (KJ/Mol), Schmelzwärme 15,45 (KJ/Mol), elektrische Leitfähigkeit 0,0234 (106/Cm).Aufgrund der hohen Kosten von hochreinem Titan ist das Anwendungsgebiet ist äußerst begrenzt und wird hauptsächlich als Halbleitermaterialien und gasabsorbierende Materialien in Ultrahochvakuumgeräten verwendet.Hochreines Titan absorbiert Gase, insbesondere Wasserstoff-, CH4- und Co2-Gase, sodass es im Hochvakuum und Ultra weit verbreitet sein kann - Hochvakuumsysteme.Wenn hochreines Titan-Sputtern verwendet wird, um das Leitungsnetzwerk von LSI, VLSI und ULSI herzustellen, können diese integrierten Teile besonders leicht, dünn, klein und dicht in der Reihe hergestellt werden. Hochreine Titan-Targets können dies ebenfalls als Barriereschicht-Metallmaterialien verwendet werden.

Wir produzieren hochreine gesputterte Titantargets, deren wichtigster Vorteil darin besteht, Filme mit ausgezeichneter elektrischer Leitfähigkeit und Partikelminimierung während der physikalischen Dampfabscheidung zu erhalten. Verwendete Analysemethoden: 1. Metallelementanalyse mit GDMS oder ICP-OES; 2. Gaselementanalyse mit LECO.

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