Niobrohr-Target

Niobrohr-Target

Mit der rasanten Entwicklung der Flachbildschirm- und Photovoltaikindustrie steigt die Marktnachfrage nach Niob-Targets, da bei der Verwendung von Targetmaterialien die Nutzungsrate von röhrenförmigen Targets viel höher ist als die Nutzungsrate von planaren Targets, was mehr als ist doppelt so hoch, daher ist die Entwicklung großformatiger Niobröhren-Targets für die Flachbildschirm- und Photovoltaikindustrie sehr dringend.
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Produkteinführung

Nb205-Film hat hervorragende optische Eigenschaften, sein optischer Wellenleiterverlust ist gering und wird häufig in Wellenleiter-SHG-Geräten (zweite Harmonische Generation) verwendet. Da Nb205-Film eine starke UV-Absorptionskapazität hat, kann er als Schutzfilm für UV-empfindliche Materialien verwendet werden. Aufgrund des hohen Brechungsindex von Nb205-Film können mit SiO2 Filme mit unterschiedlichen Brechungsindizes hergestellt werden. In den letzten Jahren hat der Nb205-Film als elektrochromes Material mit ausgezeichneter Leistung ein großes Interesse bei Forschern geweckt.


Nb205-Film wird immer häufiger verwendet, und die Nachfrage nach Nb-Targets steigt angesichts des hohen Preises von Nb und der leichten Oxidation, so dass es sehr notwendig ist, einen kostengünstigen, großformatigen, umweltfreundlichen, und schadstofffreies Herstellungsverfahren von Niobrohrtargets. Gegenwärtig gibt es zwei Hauptverfahren zur Herstellung von Niobrohrtargets, das Schmiedeverfahren und das Hüllextrusionsverfahren.


(1) Schmiedeverfahren: Die vakuumgeschmolzenen Niobbarren werden erhitzt und geschmiedet, der äußere Kreis wird auf den Außendurchmesser des erforderlichen Rohrrohlings geschmiedet, und dann wird der Innendurchmesser durch mechanische Bearbeitung auf die angegebene Größe bearbeitet. Der Vorteil dieses Verfahrens besteht darin, dass das Verfahren einfach und leicht zu implementieren ist; Die Nachteile dieses Verfahrens sind eine geringe Materialausnutzung, hohe Kosten, die durch die Bearbeitung des Innenlochs beeinträchtigt werden, und die Länge des fertigen Produkts ist begrenzt.


(2) Abdeckungsextrusionsverfahren: wie das in der Patentanmeldung mit der Veröffentlichungsnummer CN102489951A beschriebene Verfahren: Unter Verwendung von hohlen geschmolzenen Niobbarren wird das Innenloch maschinell bearbeitet (die Innenlochgröße ist etwas größer als der Innendurchmesser des fertigen Niobrohrs). B. der Innendurchmesser des fertigen Niobrohrs 128 mm und das Innenloch 135 mm), Umhüllung, Erwärmung, Extrusion, Beizen (Entfernen der Deckhaut), Wärmebehandlung, mechanische Bearbeitung zum fertigen Produkt. Der Vorteil dieses Verfahrens besteht darin, dass es Niobrohrtargets verschiedener Spezifikationen und Größen mit feinen und gleichmäßigen Körnern herstellen kann; Die Nachteile dieses Verfahrens bestehen darin, dass der Prozessablauf lang ist, der Prozess komplex ist, die Größe des Innenlochs zu ungefähr ist, die Materialnutzungsrate gering ist, die Kosten hoch sind und das Beizen die Umwelt verschmutzt.


Das von unserem Unternehmen unter Verwendung eines neuen Prozessverfahrens erhaltene Ni-Rohr-Target ist besonders für das Magnetron-Sputtern geeignet, das die Vorteile eines einfachen Prozesses, einer hohen Materialausnutzung, niedriger Produktionskosten, eines Umweltschutzes und einer Schadstofffreiheit aufweist. Kunden, die Ni-Rohr-Targets benötigen, können sich jederzeit an uns wenden.


Niobium Tube Target price


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