Hersteller von Niobium -Sputter -Ziel

Vorteile von Yusheng-Metall-Niob-Targethigh-Reinheit: Wir können hohe Purity-Niobiumziele mit geringem Verunreinigungsgehalt liefern, was sicherstellen kann, dass während der Sputterbeschichtung keine übermäßigen Verunreinigungen eingeführt werden, wodurch sichergestellt wird, dass die Reinheit und Stabilität des elektrischen, optischen und anderen Eigenschaften der hergestellten Filmsteuerung der Produkte, die die Produkte in den Voraussetzungen steuern, die Voraussetzungen machen. NIOBIUM -Ziel -Uniform und stellen Sie sicher, dass die Sputterleistung jedes Teils während des Sputterprozesses gleich ist, um eine Beschichtung mit guter Gleichmäßigkeit zu erhalten.

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Produkteinführung

Produktionsprozess

1. Rohstoffauswahl:Die Verwendung von Niob-Metallblöcken mit hoher Purity als Rohstoffe ist die Gewährleistung der Reinheit und Qualität der Rohstoffe die Grundlage für die anschließende Produktion hochwertiger Niobiumziele.

2. Schmelzen:Die NIOBIUM -Rohstoffe werden durch Vakuumbogenschmelzen, Elektronenstrahlschmelzen und andere Methoden geschmolzen. Das Schmelzen von Vakuumbogen kann die vom Bogen erzeugte hohe Temperatur verwenden, um den Niob -Rohstoff schnell zu schmelzen und Verunreinigungen in einer hohen Vakuumumgebung zu entfernen. Das Schmelzen des Elektronenstrahls verwendet einen energiegeladenen Elektronenstrahl, um den Niob-Rohstoff zu bombardieren, um ihn zu schmelzen. Diese Methode kann den Schmelzprozess und die Temperatur genauer steuern.
3. Gießen:Die verschmolzene Niobium-Flüssigkeit wird in eine vorgezeichnete Form eingeführt, unter bestimmten Kühlbedingungen verfestigt und gekühlt und zu einem Niobium-Ingot verfestigt
4. Schmieden:Der Niob -Ingot wird geschmiedet und die externe Kraft wird angewendet, um plastische Verformungen zu verursachen.
5. nachfolgende Verarbeitung:Das Niob -Material nach dem Schmieden muss möglicherweise auch eingelegt werden, eingelegt, vakuumgeglüht und andere Behandlungen zur Entfernung der Oberflächenoxidskala und der Beseitigung der Verarbeitungsspannung und schließlich mechanisch verarbeitet werden, um das fertige Niobium -Zielmaterial zu erhalten.

Produktdetails

Produktname	Niobiumziele
Grad	R04200
Reinheit	Größer als oder gleich 99,95%
Norm	ASTM B 393-05
Verfahren	Magnetron -Sputterprinzip
Typ	flaches Ziel, rotierendes Ziel, individuelles Ziel
Produktionsprozess	Heißes rollendes, kaltes Rollen, Alkali -Waschen, Scher
Anwendungsfelder	Mikroelektronik, Siliziumwaferherstellung, Panel -Display, Speichertechnik
Besondere Empfehlung	Das Unternehmen verfügt über viele Jahre Erfahrung in der Produktion von Beschichtungszielen und kann Tantal, Niobium, Vanadium, Zirkonium, Hafnium, Wolfram, Molybdän, Titan, Nickel und ihre hochreinheitlichen Metallverarbeitungsteile produzieren.

Hauptanwendungen von Niobiumzielen
1. Semiconductor -Feld
Niobiumziele können verwendet werden, um Halbleitergeräte wie Transistoren und Flachbildschirme sowie integrierte Schaltungen herzustellen. Metallic Niobium hat eine gute chemische Stabilität und Leitfähigkeit und kann eine gute leitfähige Rolle im Halbleiterherstellungsprozess spielen, um die Stabilität und Zuverlässigkeit des Geräts zu gewährleisten.
2. Beschichtungsfeld
Niobiumziele können als PVD-Beschichtungsmaterial für die Oberflächenbehandlung von Metallen, Keramik und anderen Materialien verwendet werden, um eine wederbeständige und korrosionsresistente Schutzschicht zu bilden. Niobiumprodukte zeigen während des Beschichtungsprozesses gute filmbildende Eigenschaften und chemische Stabilität, die die Härte, Adhäsion und Korrosionsbeständigkeit der Beschichtung verbessern kann.

Produktshow

Niobiumziele

Niobiumlegierung

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