Wie wir alle wissen, ist Reinheit einer der wichtigsten Leistungsindikatoren des Ziels. Die Reinheitsanforderungen des Targets unterscheiden sich in der Praxis. Die Verwendung von hochreinem Titan-Targetmaterial ist teurer und hat ein kleineres Anwendungsfenster als typisches industrielles Reintitan. Wird hauptsächlich für die Bedürfnisse einiger weniger spezialisierter Sektoren verwendet. Was dann? die Hauptverwendungszwecke für hochreine Titantargets?
Hochreine Titan-Targets werden hauptsächlich verwendet für:
1. Biologische Komponenten
Da Titan nicht magnetisch ist, wird es durch ein starkes Magnetfeld nicht magnetisiert. Es funktioniert gut mit dem menschlichen Körper und hat keine negativen Nebenwirkungen. Es kann zur Herstellung von Implantaten für den menschlichen Körper verwendet werden. Aufgrund der Auflösung von Verunreinigungen im Titan sollte die Reinheit von Titan für Implantate jedoch so hoch wie möglich sein. Im Allgemeinen erreichen medizinische Titanmaterialien nicht das Niveau von hochreinem Titan. Biologische Umreifungen können aus hochreinem Titandraht hergestellt werden. Die in den Katheter eingebettete Titan-Injektionsnadel hat ebenfalls das Niveau von hochreinem Titan erreicht.
2. Materialien für Dekorationen
Dank seiner hohen Beständigkeit gegen atmosphärische Korrosion behält hochreines Titan seinen ursprünglichen natürlichen Farbton auch nach längerer Einwirkung der Atmosphäre. Daher können auch Materialien für architektonische Ornamente aus hochreinem Titan hergestellt werden. In den letzten Jahren wurde auch Titan verwendet wurde zur Herstellung verschiedener hochwertiger Accessoires und Bekleidung verwendet, darunter Armbänder, Uhren und Brillengestelle. Titan wird verwendet, weil es korrosionsbeständig ist, seine Farbe nicht verändert, über einen sehr langen Zeitraum einen guten Glanz behält und die menschliche Haut bei Kontakt nicht reizt. Der Reinheitsgrad 5N für das verwendete Titan einige Verschönerungen wurden vorgenommen.
3. Materialsammler
Titan ist ein besonders reaktives Metall mit chemischen Eigenschaften, die es ihm ermöglichen, bei hohen Temperaturen mit einer Vielzahl von Substanzen zu interagieren. Auf der Oberfläche von hochreinem Titan findet eine starke aktive Gasadsorption statt, darunter O2, N2, CO, CO2 und Wasserdampf über 650 Grad. An der Pumpenwand kann durch den verdampften Ti-Film eine Oberfläche mit hoher Adsorptionsfähigkeit entstehen. Aufgrund dieser Eigenschaft wird Ti häufig als Getter in Systemen zum Pumpen von extrem hohem Vakuum verwendet. Der endgültige Betriebsdruck der Sputter-Ionenpumpe kann bei Verwendung in Sublimationspumpen, Sputter-Ionenpumpen usw. bis zu 10-9Pa betragen. usw.
4. Informationsmedien in elektronischer Form
Die Verwendung von hochreinem Titan in Sputtertargets, integrierten Schaltkreisen, DRAMs und Flachbildschirmen hat in letzter Zeit aufgrund der raschen Expansion der High-Tech-Industrie in Bereichen wie Halbleitertechnologie und Informationstechnologie zugenommen. Gehen Sie voran. Als Diffusionsbarrieren und Verdrahtungsmaterialien für Steuerelektroden in der Halbleiter-VLSI-Industrie werden Titan-Silizium-Verbindungen, Titan-Stickstoff-Verbindungen, Wolfram-Titan-Verbindungen usw. verwendet. Diese Materialien werden mithilfe der Sputtertechnik hergestellt, die ein Titan-Target mit einer hohen erforderlich ist Reinheitsgrad, insbesondere für radioaktive Elemente und Alkalimetallelemente.
Seit kurzem wird auch hochreines Titan verwendet, das der Reinheit des im Sputterprozess verwendeten Titantargets entspricht. Die Titanreinheit muss derzeit mindestens 4N5 (99,995 %) oder 5N (99,999 %) für 4-Mbit-VLSI betragen. während es für 16 Mbit VLSI der dritten Generation mindestens 6N (99,9999 %) sein muss.
