Hafnium-Targets

Hafnium-Targets bestehen aus hochreinem Hafniummetall und weisen eine gute Wärmeleitfähigkeit, mechanische Festigkeit und chemische Stabilität auf. Hafnium-Targets werden häufig bei physikalischer Verdampfung, Magnetronsputtern und anderen Technologien zur Herstellung einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien wie Oxiden, Nitriden, Siliziden und Metallen eingesetzt. In der Halbleiterfertigung werden Hafnium-Targets üblicherweise zur Herstellung dünner Filmmaterialien wie Silizium, Siliziumnitrid, Aluminiumoxid und Zirkonoxid verwendet. Diese Dünnschichtmaterialien spielen in Halbleiterbauelementen eine wichtige Rolle, beispielsweise bei der Verbesserung der Gerätestabilität und -leistung. Bei der Herstellung von Displays werden Hafnium-Targets üblicherweise zur Herstellung transparenter Elektrodenmaterialien wie Indiumzinnoxid (ITO) und Zinkoxid (ZnO) verwendet. Hafnium-Targets spielen aufgrund ihrer hohen Reinheit und guten Eigenschaften eine wichtige Rolle in der Halbleiter- und Displayherstellung. Die Nachfrage nach Hafnium-Targets wird mit der Entwicklung der Branche weiter steigen.

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Produkteinführung

Verfahren zur Herstellung von Hafnium-Targets

Herstellung von Hafniummetall: Hafniummetall ist der Rohstoff für Hafnium-Targetmaterial, das durch Reduktion von Hafniumtetrachlorid oder Hafniumfluorid hergestellt werden muss. Verarbeitung von Hafniummetall: Hafniummetall wird in der Regel durch Schmieden, Strecken, Schneiden und andere Verarbeitungsmethoden in die erforderliche Form und Größe verarbeitet. Reinigung von Hafnium-Targetmaterial: Reinigen Sie die Oberfläche des Hafnium-Targetmaterials von Verunreinigungen und Oxiden, um die Reinheit des Materials sicherzustellen.

Verarbeitung und Prüfung von Hafnium-Targetmaterial: Schmelzen Sie den kristallisierten Hafniumbarren zu einem Barren und verarbeiten Sie den Barren dann zu einem Targetmaterial mit der erforderlichen Form und Größe. Anschließend prüfen Sie streng die Reinheit und Korngröße, um die Qualität des Hafnium-Targetmaterials sicherzustellen erfüllt die Anforderungen. Die oben genannten Schritte sind die Hauptschritte bei der Herstellung von Hafnium-Targetmaterial. Der Vorbereitungsprozess kann bei verschiedenen Herstellern unterschiedlich sein, basiert jedoch im Allgemeinen auf den oben genannten Schritten.

Eigenschaften von Hafnium-Targets

Hafnium-Targetform	Flaches Ziel, speziell geformte Anpassung
Zielreinheit von Hafnium	99.95%
Marke	Yusheng Metall
Warenzeichen	Hf1
Herkunft	Baoji China
Hafnium-Zielgröße	nach Zeichnung bearbeitet oder von anderen individuell angepasst

Unsere Produkte

Hafnium-Target

Hafniumlegierung

Hafnium-Target

Konventionelle Produktspezifikationen von Yusheng Metal:
A. Hafniumpartikel (kristallines Hafnium) Durchmesser 2* (2,5-5mm), davon Zr kleiner oder gleich 1,5 %

B. Hafniumpartikel (Hafnium mit niedrigem Zirkoniumgehalt) konventioneller Reinheit größer oder gleich 99,95 %, davon Zr<0.5%

C. Hafniumpartikel (Schwammhafnium) herkömmlicher Reinheit größer oder gleich 99,4 %, davon Zr<2%

D. Reinheit des Hafnium-Targetmaterials größer oder gleich 99,9 % (einschließlich Zirkonium), Reinheit größer oder gleich 99,95 % (einschließlich Zirkonium), Spezifikationen und Größen: rundes Target, quadratisches Target, Rohrtarget usw. (Größe kann angepasst werden)

e. Reinheit des Hafniumpulvers größer oder gleich 99,9 % (einschließlich Zirkonium), Reinheit größer oder gleich 99,95 % (einschließlich Zirkonium), Größe: -300 Mesh.

Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. konzentriert sich auf die Forschung, Entwicklung und Produktion von hochreinen Beschichtungs-Sputtertargets und hochreinen Beschichtungsfilmmaterialien.
Mit mehr als zehn Jahren Erfahrung in der Materialforschung, -entwicklung und -anwendung, kombiniert mit modernster Produktionsausrüstung, kann das Unternehmen Metalltargets und Filmmaterialien, hochreine Legierungstargets und Filmmaterialien liefern.

Zu den Produkten, zu denen hauptsächlich verschiedene Tiegel und Verdampfungsboote für die Verdampfungsbeschichtung sowie anderes Zubehör gehören, wird es in den Bereichen Halbleiter, Präzisionsoptik, Laser-Infrarot, Dünnschicht-Solarenergie, Touch-Display, Funktionsglas, Oberflächenbeschichtung usw. weit verbreitet sein. Alle großen Unternehmen und Wissenschaftliche Forschungseinrichtungen sind herzlich eingeladen, zusammenzuarbeiten und miteinander zu kooperieren, um Beschichtungsmateriallösungen aus einer Hand bereitzustellen und materialtechnische Unterstützung zu leisten. Wenn Sie Bedarf haben, rufen Sie bitte direkt an: